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沿革

1979年9月 - 半導体製造装置の製造及び販売を目的として株式会社サムコインターナショナル研究所を設立
1980年7月 - 国産初のプラズマCVD（Chemical Vapor deposition、化学気相成長）装置を開発、販売を開始
1985年6月 - 京都市伏見区竹田田中宮町33番地（現藁屋町36番地）に本社を移転
1985年6月 - 米国マーチインスツルメンツ社（現ノードソン社）の製品の販売を開始
1987年2月 - 米国カリフォルニア州シリコンバレーにオプトフィルムス研究所を開設
1994年2月 - 米国シンメトリックス社の技術を用いた「強誘電体成膜装置」の製造、販売を開始
1995年7月 - 薄膜技術を使った特定フロン無公害化技術の基本技術の開発
1997年11月 - キリンビール株式会社と共同で、プラスチックボトルにDLC（ダイヤモンド・ライク・カーボン）膜を形成する技術を開発
2000年1月 - 英国ケンブリッジ大学内に研究所を開設
2001年5月 - 日本証券業協会に株式を店頭上場
2003年12月 - （独）ロバート・ボッシュ社よりシリコンの高速ディープエッチング技術を導入
2004年11月 - 上海事務所（上海市）を開設
2004年12月 - 株式会社サムコインターナショナル研究所からサムコ株式会社へ社名を変更
2004年12月 - 日本証券業協会への店頭登録を取消し、ジャスダックに株式を上場
2006年9月 - 中国清華大学とナノ加工技術の共同研究で調印
2008年8月21日 - シリコンウェーハの株式会社SUMCOに対する商標権侵害等差止請求訴訟に関する和解が成立。[http://www.samco.co.jp/news_release/2008/20080825sumco.html サムコ報道資料

拠点

東京支店 - 東京都品川区西五反田7-25-3 (THビル)
東海営業所 - 愛知県長久手市蟹原122
つくば営業所 - 茨城県つくば市吾妻1-1 5-1 105号
仙台営業所 - 仙台市青葉区 (仙台市)/青葉区大町2-10-14 4階
広島出張所 - 広島市安佐南区中筋1-9-20 301号
オプトフィルムス研究所 - 532 Weddell Dr, Suite 5, Sunnyvale, CA 94089-2133, U.S.A.
台湾事務所 - 17F-8 Empire Commercial Bldg. 295 Kuang-Fu Rd., Sec. 2 Hsinchu 300 Taiwan, R.O.C.
上海事務所 - Room No.1410, Shanghai Overseas Chinese Mansion, 129 West Yan'an Road, Shanghai 200040 China

脚注